Ausschreibung

Deutschland – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – Elektronenstrahl-Lithographiesystem

10.01.2024, 12:00 Angebotsfrist · abgelaufen

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Beschreibung

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Tender Automation die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften
Ort: Garching
Bundesland: Bayern
CPV: 38000000 — Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Weitere: 38341100
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Veröffentlicht: 01.12.2023
Angebotsfrist: 10.01.2024, 12:00
Kennung: 503c00b7-8757-4dc9-b4e1-d88d0c11cd73
Quelle: TED (EU-Amtsblatt)

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Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 18.09.2026, 04:31.